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清洗設(shè)備
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PCE-3等離子清洗機(jī)使用空氣、氧氣、氬氣等離子去除納米級有機(jī)物污染，在射頻電源的作用下，Z大去除速率為10nm/min。在單晶材料外延薄膜生長以前對其進(jìn)行預(yù)處理，將對生長具有顯著的作用。
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